单价近30亿元！三星明年初将引进首台ASML High NA EUV光刻机
2024-10-31 09:08:16 未知当地时间昨日，韩媒ETNews报道称，三星电子已作出决定，将在2025年初引进其首台ASML High NA EUV光刻机（该设备单台售价约为3.2至4.3亿美元，折合人民币接近30亿元），标志着三星正式加入与英特尔、台积电在下代光刻技术商业化研发领域的竞争。
此前，三星电子已与比利时微电子研究中心imec展开合作，在imec与ASML共同建立的High NA EUV光刻实验室中，对High NA光刻技术进行了初步探索。此次引进自有High NA机台，无疑将加速三星在光刻技术领域的研发步伐。
▲ ASML首代High NA EUV光刻机EXE:5000
鉴于精密的High NA EUV光刻机需要一定的时间进行安装和调试，预计该机台最早将于明年中旬投入研发使用。根据三星目前的半导体先进制程路线图，其已规划至SF1.4节点（注：预计2027年量产），而采用High-NA光刻的制程则至少需等到SF1阶段。
在先进制程代工领域，三星面临的两大主要竞争对手中，英特尔已完成第二台High NA EUV光刻机的安装，而台积电的首个机台也预计将在今年内实现交付。此外，在存储领域，SK海力士则计划于2026年引入其首台High NA EUV光刻机。
