光刻机巨头ASML亮相进博会，展示7nm光刻机，表示对中国一视同仁！
2020-11-06 13:04:49 EETOPASML也带来了其整体光刻解决方案，包括先进控制能力的光刻机台计算光刻和测量通过建模、仿真、分析等技术，让边缘定位精度不断提高。
作为全球芯片光刻技术的领导者，本次ASML(阿斯麦)以“光刻未来，携手同行”为主题亮相第三届进博会技术装备展区。时间是2020年11月5日至10日，位于技术装备展区3C6-002。
光刻机（Mask Aligner) 又名掩模对准曝光机，曝光系统，光刻系统等，是制造芯片的核心装备。它采用类似照片冲印的技术，把掩膜版上的精细图形通过光线的曝光印制到硅片上。
另据澎湃新闻报道，在第三届中国国际进口博览会现场，荷兰光刻机巨头阿斯麦（ASML）全球副总裁、中国区总裁沈波表示，该公司对向中国出口集成电路光刻机持开放态度，对全球客户均一视同仁，在法律法规框架下，都将全力支持。沈波透露，2020年第二、第三季度，公司发往中国大陆地区的光刻机台数超过了全球总台数的20%。
