ASML 发布Q2财报：EUV光刻机产能大增
2019-07-18 14:24:44 ASML在Q2季度中，ASML公司获得了10台EUV光刻机订单，而且这些订单不只是用于逻辑半导体工艺，还首次用于存储芯片——在此之前，三星表示将在未来的内存芯片生产中使用EUV光刻机，ASML的存储芯片订单应该是来自三星了。
对于EUV光刻机，目前最主要的问题还是产能不足，ASML现在出售的光刻机型号是NXE:3400B，每小时晶圆产能是150到155wph，不过Q2季度中ASML已经升级到了NXE:3400C型号，产能提升到了170wph，已经有客户做到了每天生产2000片晶圆的水平了。
根据ASML的路线图，未来EUV光刻机的产品还会再有一次提升，每小时晶圆产能最终将达到185wph，不过要等到2021到2022年了。
再往后的话，EUV光刻机就要进入下一代了，提升光刻分辨率要靠新的物镜系统，ASML前几年就投资了蔡司光学20亿美元，双方将共同研发NA=0.55的High NA（高数值孔径）透镜，可以进一步提升光刻机的分辨率。
根据ASML的计划，High NA（高数值孔径）透镜的新一代EUV光刻机与在3nm节点引入，时间点是2023年到2025年，距离现在还早呢。
