Altium与Aras携手开创PLM环境下的新一代ECAD/MCAD协作
2014-10-30 19:17:49 本站原创基于Altium的ECAD协同设计管理解决方案以及Aras的成套PLM解决方案,两家公司采用全新工作方式,根据系统工程需求和复杂机电产品开发环境,全面整合ECAD-MCAD的PLM工作流程。
Altium首席技术官Jason Hingston表示:“团队协同设计和ECAD设计管理在当今的电子设计环境中已经成为基本需求,Altium与Aras的合作将为设计工程师和大型组织的设计团队提供更高水平的ECAD/MCAD整合环境。”
Aras总裁Peter Schoroer表示:“新一代的产品开发结合了电子技术和软件工程,在设计和制造过程中更具复杂性。Altium与我们的愿景一致,即集成电子和机械设计流程,这为我们提供了一个大好机会,通过双方合作为现代化制造企业提供更好的PLM系统。”