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Berkeley 关于0.35uM CMOS工艺的讲解

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发表于 2009-10-21 15:57:08 | 显示全部楼层 |阅读模式

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1. Introduction
2. Process development and simulation
3. CMOS baseline fabrication process
4. Measurement results of CMOS170
5. SPICE model parameter extraction from BSIMPro+
6. Process and device parameters
7. Introduction of standard design rules in the transistor design

EECS-2007-26.pdf

992.04 KB, 下载次数: 777 , 下载积分: 资产 -2 信元, 下载支出 2 信元

0.35 μm CMOS PROCESS ON SIX-INCH WAFERS

发表于 2009-10-22 01:10:49 | 显示全部楼层
路过看看
发表于 2009-10-24 10:13:31 | 显示全部楼层
1# animalheart xiexie
发表于 2009-10-24 10:24:51 | 显示全部楼层
比较实用,谢谢!
发表于 2009-10-24 13:52:46 | 显示全部楼层
谢谢分享
发表于 2009-10-27 10:42:51 | 显示全部楼层
下来看看
发表于 2009-10-27 12:07:28 | 显示全部楼层
Berkeley 关于0.35uM CMOS工艺的讲解
发表于 2009-11-6 05:20:03 | 显示全部楼层
great
发表于 2009-11-18 16:58:04 | 显示全部楼层
xiexie
发表于 2009-11-18 17:00:32 | 显示全部楼层
xie xie xie
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